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Ionenstrahl Sputtern (IBS)

So, nachdem ich nun auch endlich trotz Zugverspätung zu Hause angekommen bin, widme ich mich noch schnell vorm schlafen gehen dem Firmenbingo. Heute habe ich dieses Bild gezogen:

 

Dass ein technischer Prozess gezeigt wird, ist klar, aber welcher ist nicht wirklich sofort erkennbar. Bei der Firma Layertac findet man aber zum Glück Aufklärung ;):

Beim Ionenstrahlsputtern (engl.: Ion Beam Sputtering, IBS) wird eine separate Ionenquelle eingesetzt. Um Kontaminationen durch Filamente vorzubeugen, verwendet man in modernen IBS-Anlagen hochfrequenzangeregte Quellen. Das Reaktivgas (Sauerstoff) wird in den meisten Fällen auch von der Ionenquelle geliefert. Dies führt zu einer besseren Reaktivität der Teilchen und kompakteren Schichten.

Der größte Unterschied zwischen dem Magneton-Sputtern und dem Ionenstrahl-Sputtern liegt in der kompletten Trennung der Ionen-Erzeugung vom Target und Substrat beim IBS, während sie beim Magnetron-Sputtern sehr nah beieinander liegen.

Das solls diesmal auch schon gewesen sein, das Bett ruft ;).

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